ビスマス塩化物、ビスマス塩化物の製造方法、及び、膜の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20250050680

申请日：

2025-03-25

公开(公告)号：

JP7733263B1

公开(公告)日：

2025-09-02

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IPC主分类号：

C01G29/00

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法律状态信息

共 50 条

[1]

塩化銅の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5884122B1 ,2016-03-15

[2]

塩化銅の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015186430A1 ,2017-04-20

[3]

スルホン酸塩組成物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7122492B1 ,2022-08-19

[4]

マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014073389A1 ,2016-09-08

[5]

バイオマス燃料の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017014028A1 ,2018-04-19

[6]

マスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017169587A1 ,2018-04-05

[7]

マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014080840A1 ,2017-01-05

[8]

位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、及び位相シフトマスクの製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014171510A1 ,2017-02-23

[9]

反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P].

SEI RYOSUKE .

日本专利 :JP2025037417A ,2025-03-18

[10]

反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P].

AKAGI DAIJIRO ;

OKATO TAKESHI ;

SASAKI KENICHI ;

ISHIKAWA ICHIRO ;

SUZUKI NORIYUKI .

日本专利 :JP2024135499A ,2024-10-04

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