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半导体存储装置及半导体存储装置的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510213721.9
申请日：
2025-02-26
公开(公告)号：
CN120676636A
公开(公告)日：
2025-09-19
发明(设计)人：
坂口武史
満野阳介
申请人：
铠侠股份有限公司
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
H10B43/35
IPC分类号：
H10B43/20
H10B43/40
H10B41/20
H10B41/35
H10B41/41
H10B80/00
代理机构：
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人：
杨林勳
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-10-10 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H10B 43/35申请日:20250226 |
| 2025-09-19 | 公开 | 公开 |