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新型氧化硅刻蚀腔体及刻蚀方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510729746.4
申请日：
2025-06-03
公开(公告)号：
CN120690715A
公开(公告)日：
2025-09-23
发明(设计)人：
李俊良
申请人：
上海稷以科技有限公司
申请人地址：
200241 上海市闵行区东川路555号戊楼4026室
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/311
H01L21/02
代理机构：
上海邦德专利代理事务所(普通合伙) 31312
代理人：
孟丽娜
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
上海市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-10-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20250603 |
| 2025-09-23 | 公开 | 公开 |