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刻蚀腔体、刻蚀装置及刻蚀方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410499880.5
申请日：
2024-04-24
公开(公告)号：
CN118073250B
公开(公告)日：
2024-07-09
发明(设计)人：
李国强
衣新燕
申请人：
广州市艾佛光通科技有限公司
申请人地址：
510700 广东省广州市黄埔区瑞吉二街49号201房
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01J37/32
H01L21/683
代理机构：
广东海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377
代理人：
陈椅行
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
广东省
广州市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-06-11 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20240424 |
| 2024-07-09 | 授权 | 授权 |
| 2024-05-24 | 公开 | 公开 |