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保持装置、基板処理装置及び物品の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240030641
申请日
:
2024-02-29
公开(公告)号
:
JP2025132825A
公开(公告)日
:
2025-09-10
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/683
IPC分类号
:
G03F7/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
保持装置、基板処理装置及び物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7773576B2
,2025-11-19
[2]
基板保持装置、基板処理装置、基板保持方法、基板処理方法、および物品製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7681200B1
,2025-05-21
[3]
基板保持装置、基板処理装置、基板保持方法、基板処理方法、および物品製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025131525A
,2025-09-09
[4]
基板保持装置、基板処理装置、基板保持方法、基板処理方法、および物品製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025131588A
,2025-09-09
[5]
チャック、基板保持装置、基板処理装置、及び物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7778482B2
,2025-12-02
[6]
チャック、基板保持装置、基板処理装置、及び物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7581146B2
,2024-11-12
[7]
基板保持装置、露光装置、及び物品の製造方法[ja]
[P].
KANEKO SHINYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CANON KK
CANON KK
KANEKO SHINYA
;
HOSOKAWA HIRONOBU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CANON KK
CANON KK
HOSOKAWA HIRONOBU
.
日本专利
:JP2024158730A
,2024-11-08
[8]
基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6991927B2
,2022-01-13
[9]
基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7016825B2
,2022-02-07
[10]
基板保持方法、基板保持装置、処理方法及び処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6568781B2
,2019-08-28
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