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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、共重合体及び化合物[ja]

被引：0
申请号：
JP20240032995
申请日：
2024-03-05
公开(公告)号：
JP2025135247A
公开(公告)日：
2025-09-18
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/039
IPC分类号：
C08F220/12 G03F7/004 G03F7/20
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6455155B2 ,2019-01-23
[2]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び共重合体[ja] [P]. 
NGUYEN KHANHTIN ;
FUJINO AKINARI .
日本专利 :JP2024178693A ,2024-12-25
[3]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6036545B2 ,2016-11-30
[4]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013133230A1 ,2015-07-30
[5]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6149656B2 ,2017-06-21
[6]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6241226B2 ,2017-12-06
[7]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体[ja] [P]. 
日本专利 :JP6287369B2 ,2018-03-07
[8]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6130109B2 ,2017-05-17
[9]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5846889B2 ,2016-01-20
[10]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6002430B2 ,2016-10-05
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