共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体[ja]
被引：0
申请号：
JP20140045775
申请日：
2014-03-07
公开(公告)号：
JP6287369B2
公开(公告)日：
2018-03-07
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
C07C309/19
C07C381/12
C08F220/38
C09K3/00
G03F7/038
G03F7/039
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |