优化嵌入式存储器件栅极形成的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510809020.1
申请日
2025-06-17
公开(公告)号
CN120769549A
公开(公告)日
2025-10-10
发明(设计)人
吴熙烁 吴志涛
申请人
华虹半导体制造(无锡)有限公司
申请人地址
214111 江苏省无锡市新吴区新洲路30-1号
IPC主分类号
H10D64/01
IPC分类号
H10B41/30 H10B41/40
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
陈钧
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
形成嵌入式存储器件的方法 [P]. 
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[3]
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[4]
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黄善焕 ;
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朴吉在 .
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[6]
非易失性存储器件的形成方法 [P]. 
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[7]
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[8]
嵌入式存储器及其制造方法 [P]. 
顾文炳 .
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[9]
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金恩顺 ;
姜仁国 ;
姜成泽 ;
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[10]
嵌入式非易失性存储器器件及其制造方法 [P]. 
陈春 ;
J·朴 ;
金恩顺 ;
姜仁国 ;
姜成泽 ;
张国栋 .
中国专利 :CN110785845A ,2020-02-11