酸化物半導体メモリ素子およびその製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20250041203
申请日
2025-03-14
公开(公告)号
JP2025141950A
公开(公告)日
2025-09-29
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H10B43/27
IPC分类号
H10D30/69
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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