半导体结构及其制备方法、晶体管结构

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专利类型
发明
申请号
CN202310324252.9
申请日
2023-03-29
公开(公告)号
CN118785691B
公开(公告)日
2025-10-03
发明(设计)人
刘翔
申请人
长鑫存储技术有限公司
申请人地址
230601 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
IPC主分类号
H10B12/00
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
授权
国省代码
安徽省 宣城市
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共 50 条
[1]
半导体结构及其制备方法、晶体管结构 [P]. 
刘翔 .
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[2]
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[3]
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[4]
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[5]
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曾巧玉 ;
尹雪兵 ;
葛晓明 ;
陈志涛 .
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[6]
半导体结构、晶体管结构及半导体处理设备 [P]. 
刘铁 .
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[7]
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倩·D·唐 ;
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[8]
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中国专利 :CN112909073A ,2021-06-04
[9]
半导体结构、包括半导体结构的晶体管和制造晶体管的方法 [P]. 
朴永焕 ;
金钟燮 .
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[10]
半导体结构及其制备方法、晶体管器件的制备方法 [P]. 
罗启仁 ;
童宇诚 .
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