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液相外延炉
被引:0
专利类型
:
外观设计
申请号
:
CN202530085106.5
申请日
:
2025-02-26
公开(公告)号
:
CN309531385S
公开(公告)日
:
2025-10-03
发明(设计)人
:
杨思强
尹燕彬
姜鸿云
高安硕
申请人
:
青岛赛瑞得伟创电子科技有限公司
申请人地址
:
266000 山东省青岛市城阳区夏庄街道仙山东路33号一层
IPC主分类号
:
23-03
IPC分类号
:
代理机构
:
青岛星帆专利代理事务所(普通合伙) 37503
代理人
:
丁东东
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-03
授权
授权
共 50 条
[1]
立式液相外延炉
[P].
张海林
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张海林
;
崔慧敏
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崔慧敏
;
臧一平
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臧一平
.
中国专利
:CN203569235U
,2014-04-30
[2]
立式液相外延炉
[P].
张海林
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张海林
;
崔慧敏
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崔慧敏
;
臧一平
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臧一平
.
中国专利
:CN103526281B
,2014-01-22
[3]
立式液相外延薄膜生长炉
[P].
宋立禄
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宋立禄
;
张海林
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张海林
;
刘国霞
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刘国霞
.
中国专利
:CN306811218S
,2021-09-07
[4]
液相外延取片铲
[P].
许军
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机构:
安徽光智科技有限公司
安徽光智科技有限公司
许军
;
赵倩
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机构:
安徽光智科技有限公司
安徽光智科技有限公司
赵倩
.
中国专利
:CN223292704U
,2025-09-02
[5]
磷化镓液相外延装置
[P].
丁祖昌
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丁祖昌
;
华伟民
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华伟民
.
中国专利
:CN2044378U
,1989-09-13
[6]
双坩埚液相外延生长装置
[P].
宋波
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宋波
;
张晗旭
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张晗旭
;
朱森寅
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朱森寅
;
王先杰
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王先杰
;
韩杰才
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韩杰才
.
中国专利
:CN114752997A
,2022-07-15
[7]
一种液相外延工装及利用其液相外延生长薄膜的方法
[P].
请求不公布姓名
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机构:
北京智创芯源科技有限公司
北京智创芯源科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN120485941A
,2025-08-15
[8]
提高垂直液相外延温场均匀性的方法及垂直液相外延系统
[P].
郝斐
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机构:
中国电子科技集团公司第十一研究所
中国电子科技集团公司第十一研究所
郝斐
;
杨海燕
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机构:
中国电子科技集团公司第十一研究所
中国电子科技集团公司第十一研究所
杨海燕
;
折伟林
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机构:
中国电子科技集团公司第十一研究所
中国电子科技集团公司第十一研究所
折伟林
;
邢晓帅
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机构:
中国电子科技集团公司第十一研究所
中国电子科技集团公司第十一研究所
邢晓帅
;
胡易林
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机构:
中国电子科技集团公司第十一研究所
中国电子科技集团公司第十一研究所
胡易林
;
曹鹏飞
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机构:
中国电子科技集团公司第十一研究所
中国电子科技集团公司第十一研究所
曹鹏飞
.
中国专利
:CN117535785A
,2024-02-09
[9]
一种液相外延工装及利用其液相外延生长薄膜的方法
[P].
请求不公布姓名
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机构:
北京智创芯源科技有限公司
北京智创芯源科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN120485941B
,2025-10-17
[10]
一种垂直液相外延炉废汞收集结构
[P].
潘春波
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机构:
浙江珏芯微电子有限公司
浙江珏芯微电子有限公司
潘春波
;
熊雄
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机构:
浙江珏芯微电子有限公司
浙江珏芯微电子有限公司
熊雄
;
毛剑宏
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机构:
浙江珏芯微电子有限公司
浙江珏芯微电子有限公司
毛剑宏
.
中国专利
:CN223238633U
,2025-08-19
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