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基板状态测定装置、镀覆装置以及基板状态测定方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411517665.X
申请日：
2022-08-26
公开(公告)号：
CN119593039B
公开(公告)日：
2025-09-26
发明(设计)人：
下山正 増田泰之 樋渡良辅
申请人：
株式会社荏原制作所
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
C25D17/00
IPC分类号：
H01L21/66 G01N21/95 C25D5/02 C25D7/12
代理机构：
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人：
姜越
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-03-11 公开 公开
2025-09-26 授权 授权
2025-03-28 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C25D 17/00申请日:20220826
共 50 条
[1]
基板状态测定装置、镀覆装置以及基板状态测定方法 [P]. 
下山正 ;
増田泰之 ;
樋渡良辅 .
日本专利 :CN119593039A ,2025-03-11
[2]
基板状态测定装置、镀覆装置以及基板状态测定方法 [P]. 
下山正 ;
増田泰之 ;
樋渡良辅 .
日本专利 :CN117813422A ,2024-04-02
[3]
基板状态测定装置、镀覆装置以及基板状态测定方法 [P]. 
下山正 ;
増田泰之 ;
樋渡良辅 .
日本专利 :CN117813422B ,2024-11-22
[4]
状态测定方法、状态测定装置以及程序 [P]. 
小杉大智 ;
相川文明 ;
岩濑骏介 ;
丸山泰右 .
日本专利 :CN120225849A ,2025-06-27
[5]
基板处理装置、测定装置以及测定方法 [P]. 
松尾祐平 .
日本专利 :CN120824216A ,2025-10-21
[6]
偏振状态测定装置以及偏振状态测定方法 [P]. 
山田英明 ;
长石道博 .
中国专利 :CN102914368A ,2013-02-06
[7]
镀覆装置以及基板的膜厚测定方法 [P]. 
关正也 ;
富田正辉 ;
张绍华 .
中国专利 :CN115119515A ,2022-09-27
[8]
水分状态测定装置及水分状态测定方法 [P]. 
富田高弘 .
中国专利 :CN103713108A ,2014-04-09
[9]
玻璃基板应变测定方法以及玻璃基板应变测定装置 [P]. 
大田正博 ;
井上肇 ;
高桥忠 ;
西川佳范 .
中国专利 :CN109313014A ,2019-02-05
[10]
状态测定装置 [P]. 
筒井宏明 ;
神村一幸 ;
黑崎淳 ;
松叶匡彦 .
中国专利 :CN1087187A ,1994-05-25
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