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銅シード層除去用銅エッチング液[ja]
被引:0
申请号
:
JP20250130862
申请日
:
2025-08-05
公开(公告)号
:
JP7759685B1
公开(公告)日
:
2025-10-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23F1/18
IPC分类号
:
H05K3/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 48 条
[1]
銅シード層除去用銅エッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JP2025166054A
,2025-11-05
[2]
銅厚膜用エッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JP6443649B1
,2018-12-26
[3]
銅厚膜用エッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019180915A1
,2020-04-30
[4]
銅/チタン系多層薄膜用エッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011093445A1
,2013-06-06
[5]
銅のエッチング剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7436070B1
,2024-02-21
[6]
銅/モリブデン系多層薄膜用エッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013015322A1
,2015-02-23
[7]
銅エッチング液組成物及びエッチング方法[ja]
[P].
MITSUI HIDEO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUASHIRITEI KK
FUASHIRITEI KK
MITSUI HIDEO
;
KISHI KAZUYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUASHIRITEI KK
FUASHIRITEI KK
KISHI KAZUYUKI
.
日本专利
:JP2024060565A
,2024-05-02
[8]
銅層及びモリブデン層を含む多層薄膜用エッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011099624A1
,2013-06-17
[9]
シリコン表面の銅支援反射防止エッチング[ja]
[P].
日本专利
:JP2015512566A
,2015-04-27
[10]
多層膜用エッチング液とエッチング濃縮液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018047210A1
,2018-09-06
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