一种掩膜框架及其制作方法、掩膜装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311130902.2

申请日：

2023-09-04

公开(公告)号：

CN117026151B

公开(公告)日：

2025-11-07

发明(设计)人：

张蔡星钱超王明芳

申请人：

江苏高光半导体材料有限公司

申请人地址：

212400 江苏省镇江市句容市经济开发区阳山路19号

IPC主分类号：

C23C14/04

IPC分类号：

C23C16/04

代理机构：

南京纵横知识产权代理有限公司 32224

代理人：

董成

法律状态：

授权

国省代码：

河北省衡水市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-07	授权	授权

共 50 条

[1]

一种掩膜框架及掩膜装置 [P].

张蔡星 ;

钱超 ;

王明芳 .

中国专利 :CN220846242U ,2024-04-26

[2]

掩膜装置及其制作方法 [P].

王士敏 ;

郭元元 ;

商陆平 ;

李绍宗 ;

王连彬 ;

陈雄达 .

中国专利 :CN102830586B ,2012-12-19

[3]

掩膜版及其制作方法 [P].

刘孟彬 ;

罗海龙 .

中国专利 :CN108546912B ,2018-09-18

[4]

一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置 [P].

王广成 ;

甘帅燕 .

中国专利 :CN118048607A ,2024-05-17

[5]

一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置 [P].

王广成 ;

甘帅燕 .

中国专利 :CN118048607B ,2025-10-17

[6]

掩膜版及其制作方法 [P].

刘孟彬 ;

罗海龙 .

中国专利 :CN108611593A ,2018-10-02

[7]

掩膜版及其制作方法 [P].

刘孟彬 ;

罗海龙 .

中国专利 :CN108624841B ,2018-10-09

[8]

掩膜版及其制作方法、掩膜装置和蒸镀方法 [P].

浦超 ;

张大成 ;

单庆山 ;

陈小川 ;

黄寅虎 ;

杨盛际 ;

卢鹏程 ;

马召 ;

张应兵 ;

屈刘泽明 ;

苏琦 ;

谢卓洋 .

中国专利 :CN120239761A ,2025-07-01

[9]

分段式掩膜片、掩膜版、掩膜版组件及其制作方法 [P].

钱超 ;

杨柯 .

中国专利 :CN111996489B ,2020-11-27

[10]

一种掩膜板和掩膜板制作方法 [P].

毕娜 ;

白珊珊 ;

刘月 .

中国专利 :CN112662995A ,2021-04-16

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