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掩膜装置及其制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110164791.8
申请日
:
2011-06-17
公开(公告)号
:
CN102830586B
公开(公告)日
:
2012-12-19
发明(设计)人
:
王士敏
郭元元
商陆平
李绍宗
王连彬
陈雄达
申请人
:
申请人地址
:
518057 广东省深圳市南山区高新技术产业园区朗山二路9号
IPC主分类号
:
G03F100
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2013-02-06
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101391736964 IPC(主分类):G03F 1/00 专利申请号:2011101647918 申请日:20110617
2014-12-10
授权
授权
2012-12-19
公开
公开
共 50 条
[1]
掩膜版及其制作方法、掩膜装置和蒸镀方法
[P].
浦超
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
浦超
;
张大成
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
张大成
;
单庆山
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
单庆山
;
陈小川
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
陈小川
;
黄寅虎
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
黄寅虎
;
杨盛际
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
杨盛际
;
卢鹏程
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
卢鹏程
;
马召
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
马召
;
张应兵
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
张应兵
;
屈刘泽明
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
屈刘泽明
;
苏琦
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
苏琦
;
谢卓洋
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
谢卓洋
.
中国专利
:CN120239761A
,2025-07-01
[2]
掩膜板及其制作方法
[P].
关新兴
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关新兴
;
毕娜
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毕娜
;
刘华猛
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刘华猛
;
刘佳宁
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刘佳宁
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白珊珊
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白珊珊
;
李彦松
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李彦松
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曾琪皓
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曾琪皓
;
刘浩
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刘浩
.
中国专利
:CN114752889A
,2022-07-15
[3]
掩膜板及其制作方法
[P].
袁鹏程
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袁鹏程
;
翟中远
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翟中远
;
王永茂
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王永茂
;
曾望明
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曾望明
;
张文畅
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张文畅
.
中国专利
:CN109628881A
,2019-04-16
[4]
掩膜板及其制作方法
[P].
关新兴
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
关新兴
;
毕娜
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
毕娜
;
刘华猛
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
刘华猛
;
刘佳宁
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
刘佳宁
;
白珊珊
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
白珊珊
;
李彦松
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
李彦松
;
曾琪皓
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
曾琪皓
;
刘浩
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
刘浩
.
中国专利
:CN114752889B
,2024-06-14
[5]
掩膜板及其制作方法
[P].
张峰杰
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
张峰杰
;
王路
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
王路
;
孙中元
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
孙中元
;
王伟杰
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
王伟杰
;
薛金祥
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京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
薛金祥
;
张可忆
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
张可忆
.
中国专利
:CN116590657B
,2025-09-19
[6]
掩膜组件及其制作方法
[P].
李吉东
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李吉东
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徐鹏
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徐鹏
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赵建成
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赵建成
.
中国专利
:CN110923626A
,2020-03-27
[7]
虚拟掩膜板、掩膜板及其制作方法
[P].
刘鹏
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刘鹏
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李付强
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李付强
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冯京
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冯京
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王志冲
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王志冲
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栾兴龙
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栾兴龙
.
中国专利
:CN109814328B
,2019-05-28
[8]
一种掩膜框架及其制作方法、掩膜装置
[P].
张蔡星
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机构:
江苏高光半导体材料有限公司
江苏高光半导体材料有限公司
张蔡星
;
钱超
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机构:
江苏高光半导体材料有限公司
江苏高光半导体材料有限公司
钱超
;
王明芳
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机构:
江苏高光半导体材料有限公司
江苏高光半导体材料有限公司
王明芳
.
中国专利
:CN117026151B
,2025-11-07
[9]
掩膜装置及其制作方法、蒸镀系统
[P].
吕守华
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吕守华
;
黄俊杰
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黄俊杰
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张德
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张德
;
赵蓉
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赵蓉
.
中国专利
:CN108441814A
,2018-08-24
[10]
掩膜板及其制作方法、阵列基板及其制作方法、显示装置
[P].
郭永林
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
郭永林
;
刘庭良
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
刘庭良
;
张锴
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
张锴
;
张毅
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
张毅
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中国专利
:CN108761999B
,2024-06-04
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