等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011451572.3

申请日：

2020-12-10

公开(公告)号：

CN112992643B

公开(公告)日：

2025-10-21

发明(设计)人：

山岸幸司白泽大辅

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01L21/67 H01L21/3065

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

授权

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-21	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山岸幸司 ;

白泽大辅 .

中国专利 :CN112992643A ,2021-06-18

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山田和人 ;

远藤宏纪 ;

佐藤贵志 .

日本专利 :CN112117178B ,2024-07-12

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山田和人 ;

远藤宏纪 ;

佐藤贵志 .

中国专利 :CN112117178A ,2020-12-22

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西條利晃 ;

阿部淳 ;

庄司省吾 ;

加藤纯也 .

中国专利 :CN114242552A ,2022-03-25

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

中山博之 ;

增泽健二 ;

本田昌伸 .

中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

王汤贵 ;

大石哲也 ;

浦川理史 ;

森北信也 .

日本专利 :CN119522474A ,2025-02-25

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

丸山幸儿 ;

堀口将人 ;

松木哲理 ;

舆石公 .

中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 ;

佐佐木芳彦 .

中国专利 :CN100536069C ,2008-04-30

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