薄膜キャパシタ[ja]

被引:0
申请号
JP20240046819
申请日
2024-03-22
公开(公告)号
JP2025146179A
公开(公告)日
2025-10-03
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01G4/33
IPC分类号
H01G4/008 H01G4/08 H01G4/12
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[21]
キャパシタおよびHfO2膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019208340A1 ,2020-12-17
[23]
[24]
可変キャパシタアレイ装置およびその方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016526300A ,2016-09-01
[25]
キャパシタ及びそれを内蔵した配線基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006082817A1 ,2008-06-26
[27]
エピタキシャルシリコンチャネルの成長[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025516792A ,2025-05-30
[28]
エピタキシャルシリコンチャネルの成長[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025516794A ,2025-05-30
[29]
固体電解キャパシタのためのリード線構造[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019537264A ,2019-12-19
[30]
埋め込み可能な半導体ベースのキャパシタ[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024521250A ,2024-05-30