半导体结构及其制作方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110521137.1
申请日
2021-05-13
公开(公告)号
CN115347047B
公开(公告)日
2025-11-21
发明(设计)人
李信宏
申请人
联华电子股份有限公司
申请人地址
中国台湾新竹市
IPC主分类号
H10D30/64
IPC分类号
H10D62/10 H10D30/01
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
陈小雯
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
许飞 ;
王梦慧 ;
杨宗凯 ;
陈信全 .
中国专利 :CN117790290B ,2024-06-07
[2]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
李信宏 .
中国专利 :CN115347047A ,2022-11-15
[3]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
陈语同 ;
林建名 ;
许传进 ;
何志伟 ;
何彦仕 .
中国专利 :CN106129026A ,2016-11-16
[4]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
王勤 ;
杨征 .
中国专利 :CN118136644A ,2024-06-04
[5]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
王鹤飞 ;
骆志炯 ;
刘佳 .
中国专利 :CN102456734B ,2012-05-16
[6]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
邱达伟 ;
江品宏 ;
王家麟 ;
黄伟伦 ;
吕佳纹 ;
林岳璋 .
中国专利 :CN119028976A ,2024-11-26
[7]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
王路广 .
中国专利 :CN115312492A ,2022-11-08
[8]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
刘佳 ;
骆志炯 ;
王鹤飞 .
中国专利 :CN102347349A ,2012-02-08
[9]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
王晓玲 .
中国专利 :CN120547919A ,2025-08-26
[10]
半导体结构及其制作方法 [P]. 
刘苏涛 .
中国专利 :CN121126858A ,2025-12-12