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一种异型金属薄膜光刻工艺
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311470893.1
申请日
:
2023-11-07
公开(公告)号
:
CN117512509B
公开(公告)日
:
2025-10-24
发明(设计)人
:
周东平
张鑫
申请人
:
镇江晶鼎光电科技有限公司
申请人地址
:
212000 江苏省镇江市新区潘宗路38号健康食品产业园13号楼
IPC主分类号
:
C23C14/04
IPC分类号
:
C23C14/34
C23C14/18
B05D1/02
代理机构
:
江苏德耀知识产权代理有限公司 32583
代理人
:
马英
法律状态
:
公开
国省代码
:
江苏省 镇江市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-06
公开
公开
2025-10-24
授权
授权
2024-02-27
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/04申请日:20231107
共 50 条
[1]
一种异型金属薄膜光刻工艺
[P].
周东平
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
镇江晶鼎光电科技有限公司
镇江晶鼎光电科技有限公司
周东平
;
张鑫
论文数:
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引用数:
0
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机构:
镇江晶鼎光电科技有限公司
镇江晶鼎光电科技有限公司
张鑫
.
中国专利
:CN117512509A
,2024-02-06
[2]
一种光刻胶、制备方法及其光刻工艺
[P].
孙逊运
论文数:
0
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0
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0
孙逊运
;
谢桂兰
论文数:
0
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0
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谢桂兰
;
孙敏
论文数:
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0
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孙敏
;
吴淑财
论文数:
0
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0
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吴淑财
;
于凯
论文数:
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于凯
;
宋建林
论文数:
0
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0
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0
宋建林
.
中国专利
:CN107844028B
,2018-03-27
[3]
光刻工艺
[P].
李永尧
论文数:
0
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0
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0
李永尧
;
王盈盈
论文数:
0
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王盈盈
;
刘恒信
论文数:
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刘恒信
;
林进祥
论文数:
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0
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林进祥
.
中国专利
:CN103543611B
,2014-01-29
[4]
一种渐隐式光刻工艺
[P].
曹伟
论文数:
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机构:
虎彩印艺股份有限公司
虎彩印艺股份有限公司
曹伟
;
彭华桂
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机构:
虎彩印艺股份有限公司
虎彩印艺股份有限公司
彭华桂
;
邓建发
论文数:
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机构:
虎彩印艺股份有限公司
虎彩印艺股份有限公司
邓建发
.
中国专利
:CN115185162B
,2025-08-12
[5]
一种用于厚金属的光刻工艺
[P].
高向东
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高向东
;
张世权
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张世权
;
肖志强
论文数:
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肖志强
;
寇春梅
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寇春梅
.
中国专利
:CN102097303B
,2011-06-15
[6]
一种文字光刻工艺
[P].
杨志勇
论文数:
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机构:
深圳市宏泰设备技术有限公司
深圳市宏泰设备技术有限公司
杨志勇
.
中国专利
:CN120644809A
,2025-09-16
[7]
一种光刻工艺方法
[P].
段成明
论文数:
0
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0
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机构:
杭州积海半导体有限公司
杭州积海半导体有限公司
段成明
.
中国专利
:CN119480622A
,2025-02-18
[8]
光刻工艺方法
[P].
官锡俊
论文数:
0
引用数:
0
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官锡俊
.
中国专利
:CN110767540A
,2020-02-07
[9]
光刻工艺方法
[P].
冷国庆
论文数:
0
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
冷国庆
;
邢会锋
论文数:
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
邢会锋
;
尹静娟
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
尹静娟
;
陈倩
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
陈倩
.
中国专利
:CN116072519B
,2025-12-09
[10]
光刻工艺方法
[P].
李伟峰
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李伟峰
;
王雷
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王雷
.
中国专利
:CN105527798A
,2016-04-27
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