一种用于厚金属的光刻工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010589423.3

申请日：

2010-12-15

公开(公告)号：

CN102097303B

公开(公告)日：

2011-06-15

发明(设计)人：

高向东张世权肖志强寇春梅

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新区长江路21号信息产业园A座203室

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L21027 H01L213205 H01L213213 G03F700 G03F720

代理机构：

无锡市大为专利商标事务所 32104

代理人：

曹祖良

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-06-15	公开	公开
2011-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101096114839 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2010105894233 申请日:20101215
2012-06-20	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻工艺中用于降低光刻胶膜厚的方法 [P].

熊丹妮 ;

盛况 ;

任娜 ;

王珩宇 .

中国专利 :CN114236968A ,2022-03-25

[2]

一种用于电子束光刻工艺的层状结构及其光刻工艺 [P].

许箭 ;

张晓波 ;

王亮乾 ;

周莹莹 ;

陈哲 ;

于馨悦 .

中国专利 :CN119200332A ,2024-12-27

[3]

一种厚胶光刻工艺 [P].

陈哲 ;

张睿 ;

王者馥 ;

王绪敏 ;

殷金龙 ;

任鲁风 .

中国专利 :CN105867071A ,2016-08-17

[4]

光刻工艺及用于执行光刻工艺的系统 [P].

游秋山 .

中国专利 :CN107546111B ,2018-01-05

[5]

用于光刻工艺的辅助部件 [P].

黄道旻 ;

陈嘉仁 ;

李信昌 ;

石志聪 ;

游信胜 ;

陈政宏 ;

严涛南 .

中国专利 :CN105319832A ,2016-02-10

[6]

用于光刻工艺的辅助部件 [P].

黄道旻 ;

陈嘉仁 ;

李信昌 ;

石志聪 ;

游信胜 ;

陈政宏 ;

严涛南 .

中国专利 :CN111948897A ,2020-11-17

[7]

一种异型金属薄膜光刻工艺 [P].

周东平 ;

张鑫 .

中国专利 :CN117512509B ,2025-10-24

[8]

一种异型金属薄膜光刻工艺 [P].

周东平 ;

张鑫 .

中国专利 :CN117512509A ,2024-02-06

[9]

一种光刻胶及其光刻工艺 [P].

王国秋 ;

黄坚 ;

陈璀 .

中国专利 :CN111983890A ,2020-11-24

[10]

一种光刻胶及其光刻工艺 [P].

王国秋 ;

黄坚 ;

陈璀 .

中国专利 :CN111983890B ,2024-03-22

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