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半导体结构及半导体结构的形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011558638.9
申请日
:
2020-12-25
公开(公告)号
:
CN114695313B
公开(公告)日
:
2025-11-11
发明(设计)人
:
金志勋
白国斌
高建峰
王桂磊
丁云凌
崔恒玮
申请人
:
中国科学院微电子研究所
真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址
:
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
:
H01L23/532
IPC分类号
:
H01L21/768
代理机构
:
北京华沛德权律师事务所 11302
代理人
:
房德权
法律状态
:
授权
国省代码
:
北京市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-11
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体结构及半导体结构的形成方法
[P].
金志勋
论文数:
0
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0
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0
金志勋
;
白国斌
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白国斌
;
高建峰
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高建峰
;
王桂磊
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王桂磊
;
丁云凌
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丁云凌
;
崔恒玮
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崔恒玮
.
中国专利
:CN114695313A
,2022-07-01
[2]
半导体结构及半导体结构的形成方法
[P].
李斌
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
李斌
;
熊鹏
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
熊鹏
;
叶偲偲
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
叶偲偲
;
徐一凡
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
徐一凡
;
王瑜彬
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0
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
王瑜彬
.
中国专利
:CN115223990B
,2025-01-21
[3]
半导体结构及半导体结构的形成方法
[P].
何其旸
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0
何其旸
.
中国专利
:CN103165522A
,2013-06-19
[4]
半导体结构及半导体结构的形成方法
[P].
刘松
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机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
刘松
.
中国专利
:CN118019353A
,2024-05-10
[5]
半导体结构及半导体结构的形成方法
[P].
邱晶
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
邱晶
.
中国专利
:CN118486650A
,2024-08-13
[6]
半导体结构的形成方法及半导体结构
[P].
刘志拯
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刘志拯
.
中国专利
:CN114678330A
,2022-06-28
[7]
半导体结构及半导体结构的形成方法
[P].
刘松
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机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
刘松
.
中国专利
:CN118019354A
,2024-05-10
[8]
半导体结构的形成方法及半导体结构
[P].
蔡方文
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蔡方文
;
陈奕伊
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陈奕伊
;
吴振诚
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吴振诚
;
林志隆
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林志隆
;
包天一
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包天一
;
郑双铭
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郑双铭
;
余振华
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0
余振华
.
中国专利
:CN100550316C
,2007-10-31
[9]
半导体结构及半导体结构的形成方法
[P].
张毅俊
论文数:
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
张毅俊
;
苏博
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
苏博
.
中国专利
:CN118299404A
,2024-07-05
[10]
半导体结构形成方法及半导体结构
[P].
卢仁祥
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
卢仁祥
;
蔡宗翰
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡宗翰
;
张世勳
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张世勳
.
中国专利
:CN110610989B
,2024-10-29
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