抗蚀剂组成物及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511385328.4

申请日：

2025-09-26

公开(公告)号：

CN120972455A

公开(公告)日：

2025-11-18

发明(设计)人：

林伝文筑波标须田祐贵福岛将大

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

李茂家;李恩华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-18	公开	公开

共 50 条

[1]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大友雄太郎 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN117539126A ,2024-02-09

[2]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN111522198B ,2024-01-26

[3]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

中国专利 :CN111522198A ,2020-08-11

[4]

抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法 [P].

大友雄太郎 ;

畠山润 ;

渡边朝美 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN118818895A ,2024-10-22

[5]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

片山和弘 ;

山平达也 ;

大友雄太郎 ;

大山皓介 .

日本专利 :CN118112887A ,2024-05-31

[6]

抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、图案形成方法、及单体 [P].

畠山润 ;

大友雄太郎 ;

渡边朝美 ;

片山和弘 .

日本专利 :CN118812766A ,2024-10-22

[7]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大友雄太郎 ;

佐佐见武志 ;

铃木贵大 ;

片山和弘 ;

樋田源太郎 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN121069704A ,2025-12-05

[8]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

提箸正义 ;

大友雄太郎 .

日本专利 :CN120652740A ,2025-09-16

[9]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

船津显之 ;

小竹正晃 ;

井上直也 .

中国专利 :CN115113483A ,2022-09-27

[10]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

福岛将大 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 ;

末吉巽 .

日本专利 :CN119472171A ,2025-02-18

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