半导体结构和半导体器件及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410644060.0
申请日
2024-05-20
公开(公告)号
CN120998887A
公开(公告)日
2025-11-21
发明(设计)人
刘志拯
申请人
长鑫科技集团股份有限公司
申请人地址
230601 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
IPC主分类号
H01L23/31
IPC分类号
H01L23/48 H01L23/522 H01L21/768
代理机构
代理人
法律状态
实质审查的生效
国省代码
安徽省 宣城市
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法和半导体器件 [P]. 
张志伟 .
中国专利 :CN113539944A ,2021-10-22
[2]
半导体器件及其形成方法和半导体结构 [P]. 
张焕云 ;
吴健 .
中国专利 :CN110364570A ,2019-10-22
[3]
半导体结构及其形成方法和半导体器件 [P]. 
柴高达 ;
田旭 ;
丁元灿 ;
王新炜 .
中国专利 :CN120834121A ,2025-10-24
[4]
半导体器件及其形成方法和半导体结构 [P]. 
陈亮 .
中国专利 :CN109786383A ,2019-05-21
[5]
半导体器件及其形成方法、半导体结构 [P]. 
李庆 .
中国专利 :CN110828665A ,2020-02-21
[6]
半导体器件、半导体结构及其形成方法 [P]. 
卢炜业 ;
欧阳良岳 ;
黄鸿仪 ;
简瑞宏 ;
林俊杰 .
中国专利 :CN118712134A ,2024-09-27
[7]
半导体结构、半导体器件及其形成方法 [P]. 
翁圣勋 ;
张世杰 .
中国专利 :CN119789476A ,2025-04-08
[8]
半导体结构及其形成方法、半导体器件 [P]. 
张海洋 ;
蒋鑫 .
中国专利 :CN111627977A ,2020-09-04
[9]
半导体结构、半导体器件及其形成方法 [P]. 
张廷祥 ;
柯忠廷 ;
廖书翎 ;
林育如 ;
林颂恩 ;
黄泰钧 ;
李资良 .
中国专利 :CN120302696A ,2025-07-11
[10]
半导体结构及其形成方法、半导体器件 [P]. 
刘继全 .
中国专利 :CN113013323A ,2021-06-22