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一种193nm光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410557308.X
申请日：
2024-05-07
公开(公告)号：
CN120909071A
公开(公告)日：
2025-11-07
发明(设计)人：
王溯 徐森 耿志月 吕亚娟
申请人：
上海新阳半导体材料股份有限公司
申请人地址：
201616 上海市松江区思贤路3600号
IPC主分类号：
G03F7/09
IPC分类号：
G03F7/20 G03F7/16 G03F7/30 G03F7/00
代理机构：
上海弼兴律师事务所 31283
代理人：
陈卓
法律状态：
公开
国省代码：
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-11-07 公开 公开
2025-11-25 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/09申请日:20240507
共 50 条
[1]
一种193nm光刻用底部抗反射涂层的组合物及其制备方法和应用 [P]. 
王溯 ;
徐森 ;
耿志月 ;
吕亚娟 .
中国专利 :CN120909070A ,2025-11-07
[2]
一种ArF光刻用底部抗反射涂层及其制备方法 [P]. 
王溯 ;
徐森 ;
耿志月 ;
薛新斌 .
中国专利 :CN120909068A ,2025-11-07
[3]
一种193nm光刻用底部抗反射组合物 [P]. 
王溯 ;
徐森 ;
耿志月 ;
薛新斌 .
中国专利 :CN120909069A ,2025-11-07
[4]
一种底部抗反射涂层及其制备方法和应用 [P]. 
方书农 ;
王溯 ;
耿志月 ;
唐晨 .
中国专利 :CN116102680B ,2024-02-13
[5]
一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法和应用 [P]. 
马丽丽 ;
王静 ;
毛鸿超 ;
宋里千 ;
肖楠 ;
林国清 .
中国专利 :CN120993675A ,2025-11-21
[6]
一种双色光刻底部抗反射涂层及其制备方法 [P]. 
陈黎萍 .
中国专利 :CN118033978A ,2024-05-14
[7]
一种双色光刻底部抗反射涂层及其制备方法 [P]. 
陈黎萍 .
中国专利 :CN118033978B ,2025-02-14
[8]
一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用 [P]. 
方书农 ;
王溯 ;
耿志月 .
中国专利 :CN116144014B ,2025-02-14
[9]
一种193nm湿法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用 [P]. 
王溯 ;
方书农 ;
徐森 ;
邹琴峰 .
中国专利 :CN116082609B ,2025-05-30
[10]
一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用 [P]. 
方书农 ;
王溯 ;
耿志月 ;
崔中越 .
中国专利 :CN116144015B ,2024-11-19
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