一种193nm湿法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111307595.1

申请日：

2021-11-05

公开(公告)号：

CN116082609B

公开(公告)日：

2025-05-30

发明(设计)人：

王溯方书农徐森邹琴峰

申请人：

上海芯刻微材料技术有限责任公司

申请人地址：

201616 上海市松江区思贤路3600号11号楼东侧

IPC主分类号：

C08G63/06

IPC分类号：

C08G63/78 G03F7/004

代理机构：

上海弼兴律师事务所 31283

代理人：

陈卓

法律状态：

授权

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-30	授权	授权

共 50 条

[1]

一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用 [P].

方书农 ;

王溯 ;

耿志月 .

中国专利 :CN116144014B ,2025-02-14

[2]

一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用 [P].

方书农 ;

王溯 ;

耿志月 ;

崔中越 .

中国专利 :CN116144015B ,2024-11-19

[3]

一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用 [P].

方书农 ;

王溯 ;

耿志月 ;

唐晨 .

中国专利 :CN116144016B ,2025-02-14

[4]

一种ArF浸没式光刻胶用添加剂及含其的光刻胶 [P].

王溯 ;

方书农 ;

徐森 ;

林逸鸣 .

中国专利 :CN115963691B ,2025-11-07

[5]

一种ArF浸没式光刻胶用添加剂及含其的光刻胶 [P].

王溯 ;

方书农 ;

徐森 ;

邹琴峰 .

中国专利 :CN115960341B ,2024-09-06

[6]

一种193nm分子玻璃光刻胶及其制备方法 [P].

曾伟 .

中国专利 :CN114721221A ,2022-07-08

[7]

一种低缺陷的193nm光刻胶、光刻胶树脂及其制备方法 [P].

顾大公 ;

许东升 ;

余绍山 ;

齐国强 ;

岳力挽 ;

马潇 ;

李珊珊 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112876602A ,2021-06-01

[8]

一种193nm光刻胶树脂的制备方法 [P].

李三保 ;

聂俊 .

中国专利 :CN119613607B ,2025-12-05

[9]

一种193nm光刻胶树脂的制备方法 [P].

李三保 ;

聂俊 .

中国专利 :CN119613607A ,2025-03-14

[10]

一种193nm光刻胶成膜树脂及其制备方法和正型光刻胶组合物 [P].

曾伟 .

中国专利 :CN114874384A ,2022-08-09

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