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一种掩模版图优化方法、设备、存储介质以及程序产品

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202511181429.X
申请日：
2025-08-21
公开(公告)号：
CN120821143A
公开(公告)日：
2025-10-21
发明(设计)人：
汪琪皓
申请人：
深圳晶源信息技术有限公司
申请人地址：
518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区桃花路与槟榔道交汇处西北深九科技创业园3号楼1101
IPC主分类号：
G03F1/36
IPC分类号：
G03F1/84
代理机构：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人：
赵秀芹
法律状态：
公开
国省代码：
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-10-21 公开 公开
2025-11-07 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20250821
共 50 条
[1]
一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备 [P]. 
桑忠志 .
中国专利 :CN119150775B ,2025-12-12
[2]
一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备 [P]. 
桑忠志 .
中国专利 :CN119150775A ,2024-12-17
[3]
一种掩模版图优化方法、计算机设备、可读存储介质及程序产品 [P]. 
杨子仪 .
中国专利 :CN119167852A ,2024-12-20
[4]
一种掩模版图优化方法、计算机设备、可读存储介质及程序产品 [P]. 
杨子仪 .
中国专利 :CN119167852B ,2025-12-26
[5]
掩模版检测方法、装置、设备以及存储介质 [P]. 
杨勤丰 ;
何俊龙 ;
张锋 ;
廖文超 ;
张启顺 .
中国专利 :CN118961744B ,2025-07-04
[6]
掩模版检测方法、装置、设备以及存储介质 [P]. 
杨勤丰 ;
何俊龙 ;
张锋 ;
廖文超 ;
张启顺 .
中国专利 :CN118961744A ,2024-11-15
[7]
版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质 [P]. 
何超 ;
苏柏青 ;
苏柏松 .
中国专利 :CN114815495B ,2024-07-02
[8]
版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质 [P]. 
何超 ;
苏柏青 ;
苏柏松 .
中国专利 :CN114815495A ,2022-07-29
[9]
掩模版清洗方法、装置、设备、存储介质及产品 [P]. 
雷健 ;
谢超 ;
侯广杰 ;
刘传龙 .
中国专利 :CN119187111B ,2025-09-09
[10]
掩模版清洗方法、装置、设备、存储介质及产品 [P]. 
雷健 ;
谢超 ;
侯广杰 ;
刘传龙 .
中国专利 :CN119187111A ,2024-12-27
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