半导体器件及其形成方法、存储器

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410451687.4
申请日
2024-04-15
公开(公告)号
CN120825948A
公开(公告)日
2025-10-21
发明(设计)人
黄腾 石艳伟 张权 周璐 孟志贤 陈成
申请人
长江存储科技有限责任公司
申请人地址
430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
IPC主分类号
H10B41/41
IPC分类号
H10B41/35 H10B41/42 H10B41/20 H10B43/40 H10B43/35 H10B43/20
代理机构
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人
罗晶瑾;张颖玲
法律状态
公开
国省代码
河北省 石家庄市
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共 50 条
[1]
半导体存储器件及其形成方法 [P]. 
李钟昱 ;
孙龙勋 ;
崔时荣 .
中国专利 :CN101330085A ,2008-12-24
[2]
存储器及其形成方法、半导体器件 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN109148376B ,2019-01-04
[3]
存储器件、半导体结构及其形成方法 [P]. 
占康澍 ;
宛强 ;
徐朋辉 ;
刘涛 ;
李森 ;
夏军 .
中国专利 :CN115241372B ,2025-02-11
[4]
存储器件、半导体结构及其形成方法 [P]. 
吴宏旻 .
中国专利 :CN113161356B ,2021-07-23
[5]
半导体器件、存储器件及其形成方法 [P]. 
孙宏彰 ;
赖昇志 ;
杨子庆 ;
江昱维 ;
蒋国璋 .
中国专利 :CN113488541B ,2024-09-03
[6]
半导体器件、存储器件及其形成方法 [P]. 
孙宏彰 ;
赖昇志 ;
杨子庆 ;
江昱维 ;
蒋国璋 .
中国专利 :CN113488541A ,2021-10-08
[7]
半导体器件及其形成方法、半导体存储器器件 [P]. 
姜慧如 ;
林仲德 .
中国专利 :CN113540249A ,2021-10-22
[8]
半导体器件及其形成方法、半导体存储器器件 [P]. 
姜慧如 ;
林仲德 .
中国专利 :CN113540249B ,2024-09-06
[9]
存储器单元、半导体器件及其形成方法 [P]. 
蒋国璋 ;
孙宏彰 ;
赖昇志 ;
杨子庆 ;
江昱维 .
中国专利 :CN113380822B ,2024-12-27
[10]
存储器单元、半导体器件及其形成方法 [P]. 
吕俊颉 ;
杨世海 ;
杨柏峰 ;
林佑明 ;
张志宇 .
中国专利 :CN113380820A ,2021-09-10