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高分子成形物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220528859
申请日
:
2021-06-02
公开(公告)号
:
JP7766301B2
公开(公告)日
:
2025-11-10
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
D01F6/84
IPC分类号
:
B29C48/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子成形品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012096091A1
,2014-06-09
[2]
高分子成形体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6762289B2
,2020-09-30
[3]
高分子物質成形体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6541086B1
,2019-07-10
[4]
高分子物質成形体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6803624B2
,2020-12-23
[5]
高分子成形品の製造方法及び高分子成形品[ja]
[P].
日本专利
:JP5965704B2
,2016-08-10
[6]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014104172A1
,2017-01-12
[7]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JP6061277B2
,2017-01-18
[8]
高分子積層成形体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5959956B2
,2016-08-02
[9]
高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017204020A1
,2019-03-22
[10]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020500974A
,2020-01-16
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