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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510069282.9
申请日
:
2025-01-16
公开(公告)号
:
CN120835611A
公开(公告)日
:
2025-10-24
发明(设计)人
:
宋熙赞
金泽中
李东洙
申请人
:
三星电子株式会社
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H10D84/85
IPC分类号
:
H10D84/03
H10D64/66
H10D64/68
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
弋桂芬
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-24
公开
公开
共 50 条
[21]
半导体器件及其制造方法
[P].
川下道宏
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川下道宏
;
吉村保广
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吉村保广
;
田中直敬
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田中直敬
;
内藤孝洋
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内藤孝洋
;
赤沢隆
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赤沢隆
.
中国专利
:CN101320702A
,2008-12-10
[22]
半导体器件及其制造方法
[P].
真篠直寛
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真篠直寛
.
中国专利
:CN1320620C
,2004-01-21
[23]
半导体器件及其制造方法
[P].
张磊
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张磊
;
李铁生
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李铁生
;
马荣耀
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马荣耀
.
中国专利
:CN102931191A
,2013-02-13
[24]
半导体器件及其制造方法
[P].
金燦佑
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金燦佑
.
中国专利
:CN102347331A
,2012-02-08
[25]
半导体器件及其制造方法
[P].
关根诚
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关根诚
.
中国专利
:CN1490875A
,2004-04-21
[26]
半导体器件及其制造方法
[P].
李相敦
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李相敦
.
中国专利
:CN101286526B
,2008-10-15
[27]
半导体器件及其制造方法
[P].
根本道生
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根本道生
;
中泽治雄
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中泽治雄
.
中国专利
:CN102983159A
,2013-03-20
[28]
半导体器件及其制造方法
[P].
李盛三
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李盛三
;
金俊秀
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金俊秀
;
安孝信
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安孝信
;
山田悟
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山田悟
;
全柱炫
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全柱炫
;
郑文泳
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郑文泳
;
郑天炯
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郑天炯
;
赵珉熙
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赵珉熙
;
蔡教锡
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蔡教锡
;
崔恩爱
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崔恩爱
.
中国专利
:CN107104075A
,2017-08-29
[29]
半导体器件及其制造方法
[P].
茂庭昌弘
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茂庭昌弘
;
松崎望
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松崎望
;
竹村理一郎
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竹村理一郎
.
中国专利
:CN101136426B
,2008-03-05
[30]
半导体器件及其制造方法
[P].
井上阳子
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井上阳子
.
中国专利
:CN101189716A
,2008-05-28
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