半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510069282.9
申请日
2025-01-16
公开(公告)号
CN120835611A
公开(公告)日
2025-10-24
发明(设计)人
宋熙赞 金泽中 李东洙
申请人
三星电子株式会社
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H10D84/85
IPC分类号
H10D84/03 H10D64/66 H10D64/68
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
弋桂芬
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[21]
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川下道宏 ;
吉村保广 ;
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真篠直寛 .
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[23]
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