半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510069282.9
申请日
2025-01-16
公开(公告)号
CN120835611A
公开(公告)日
2025-10-24
发明(设计)人
宋熙赞 金泽中 李东洙
申请人
三星电子株式会社
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H10D84/85
IPC分类号
H10D84/03 H10D64/66 H10D64/68
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
弋桂芬
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[41]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
高光永 .
中国专利 :CN101136335A ,2008-03-05
[42]
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吴汉明 ;
宁先捷 .
中国专利 :CN100449784C ,2008-02-13
[43]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN109904231B ,2019-06-18
[44]
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朴祐莹 ;
李起正 ;
池连赫 ;
李承美 .
中国专利 :CN103094344A ,2013-05-08
[45]
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朴亨镇 .
中国专利 :CN102117809A ,2011-07-06
[46]
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桥本广司 ;
高田和彦 .
中国专利 :CN100429790C ,2005-10-19
[47]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
安部谦一郎 .
中国专利 :CN108461398A ,2018-08-28
[48]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
疋田智之 .
中国专利 :CN102484134B ,2012-05-30
[49]
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松本雅弘 ;
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中国专利 :CN102379036A ,2012-03-14
[50]
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张磊 ;
李铁生 .
中国专利 :CN102456690B ,2012-05-16