蚀刻装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422654709.5

申请日：

2024-11-01

公开(公告)号：

CN223652453U

公开(公告)日：

2025-12-09

发明(设计)人：

蔡照辉杨东夏凡星李鸿李翔宇

申请人：

友达光电（昆山）有限公司友达光电股份有限公司

申请人地址：

215300 江苏省苏州市昆山市经济技术开发区龙腾路6号

IPC主分类号：

H05K3/06

IPC分类号：

H05K13/00 F28D15/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-09	授权	授权

共 50 条

[1]

蚀刻槽局部蚀刻装置 [P].

陈杰兵 .

中国专利 :CN213818401U ,2021-07-27

[2]

蚀刻装置和蚀刻设备 [P].

何正鸿 ;

韩新 ;

张成 ;

田旭 .

中国专利 :CN223638323U ,2025-12-05

[3]

蚀刻装置和蚀刻设备 [P].

何正鸿 ;

韩新 ;

陶毅 ;

田旭 .

中国专利 :CN223273214U ,2025-08-26

[4]

蚀刻设备及其蚀刻装置 [P].

苏骞 ;

刘全胜 ;

金永哲 ;

乌磊 ;

孟敏 .

中国专利 :CN205881882U ,2017-01-11

[5]

蚀刻装置 [P].

林帅 ;

苏财钰 ;

张涛 ;

张彬彬 ;

苟先华 .

中国专利 :CN212934549U ,2021-04-09

[6]

蚀刻装置 [P].

蔡照辉 ;

杨东 ;

李鸿 ;

夏凡星 ;

李翔宇 .

中国专利 :CN223092818U ,2025-07-11

[7]

蚀刻装置 [P].

廖文晟 .

中国专利 :CN206541089U ,2017-10-03

[8]

蚀刻装置 [P].

李婷 ;

逯正旺 ;

赵学军 .

中国专利 :CN212924808U ,2021-04-09

[9]

蚀刻装置 [P].

杨勇 ;

杜亮 ;

李强 .

中国专利 :CN202205723U ,2012-04-25

[10]

蚀刻装置 [P].

薛强 ;

麦永业 ;

刘世振 ;

刘家桦 ;

叶日铨 .

中国专利 :CN209133470U ,2019-07-19

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