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一种基片磁控溅射镀膜生产设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202511418158.5
申请日：
2025-09-30
公开(公告)号：
CN120888885B
公开(公告)日：
2025-11-28
发明(设计)人：
刘海东 杨雨
申请人：
天津朋通科技有限公司
申请人地址：
300392 天津市滨海新区华苑产业区（环外）海泰华科八路6号一层E区108号
IPC主分类号：
C23C14/35
IPC分类号：
C23C14/56 C23C14/50 C23C14/02
代理机构：
天津盛理知识产权代理有限公司 12209
代理人：
刘英梅
法律状态：
公开
国省代码：
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-11-04 公开 公开
2025-11-21 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20250930
2025-11-28 授权 授权
共 50 条
[1]
一种基片磁控溅射镀膜生产设备 [P]. 
刘海东 ;
杨雨 .
中国专利 :CN120888885A ,2025-11-04
[2]
一种基片磁控溅射镀膜生产设备 [P]. 
刘海东 ;
杨雨 .
中国专利 :CN120249912A ,2025-07-04
[3]
一种基片磁控溅射镀膜生产设备 [P]. 
刘海东 ;
杨雨 .
中国专利 :CN120249912B ,2025-11-21
[4]
磁控溅射镀膜设备和磁控溅射镀膜方法 [P]. 
杨伟顺 ;
蒙峻 ;
蔺晓建 ;
马向利 ;
张晓鹰 .
中国专利 :CN107794496A ,2018-03-13
[5]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
王伟 ;
张勇军 ;
魏佳 ;
卢成 ;
陈科 .
中国专利 :CN117721429B ,2024-04-23
[6]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
刘玉华 ;
方凤军 .
中国专利 :CN204455279U ,2015-07-08
[7]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
睢智峰 ;
周云 ;
曹辉 ;
解文骏 ;
龙风琴 ;
宋维聪 .
中国专利 :CN119194388A ,2024-12-27
[8]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
程厚义 ;
丁庆 ;
杜寅昌 ;
李玉婷 .
中国专利 :CN309358958S ,2025-06-27
[9]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
蒋文彬 ;
李宁 ;
孙忠 ;
黄智 ;
林锦华 ;
梁师国 ;
英文 ;
李保良 .
中国专利 :CN204474751U ,2015-07-15
[10]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
张心凤 ;
郑杰 ;
尹辉 .
中国专利 :CN104878361B ,2015-09-02
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