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ウェーハの加工方法、インゴットの加工方法及びウェーハ[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240082703
申请日
:
2024-05-21
公开(公告)号
:
JP2025176507A
公开(公告)日
:
2025-12-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
B24B7/04
B24B49/12
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ウェハの分割方法および加工方法ならびにウェハ分割装置[ja]
[P].
ASAHI NOBORU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TORAY ENG CO LTD
TORAY ENG CO LTD
ASAHI NOBORU
.
日本专利
:JP2025074550A
,2025-05-14
[2]
ウェーハの面取り装置、及び、面取り方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025153863A
,2025-10-10
[3]
インゴットにおけるウェハの位置を決定する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016532291A
,2016-10-13
[4]
熱電ウェハ及びその製造方法[ja]
[P].
MORITA WATARU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LINTEC CORP
LINTEC CORP
MORITA WATARU
;
YAMAZAKI TOSHIYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LINTEC CORP
LINTEC CORP
YAMAZAKI TOSHIYA
;
MASUMOTO MUTSUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LINTEC CORP
LINTEC CORP
MASUMOTO MUTSUMI
.
日本专利
:JP2024143442A
,2024-10-11
[5]
半導体ウェハの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022534373A
,2022-07-29
[6]
ウエハーツーウエハーボンディングのためのメサ形成[ja]
[P].
日本专利
:JP2021535588A
,2021-12-16
[7]
レーザーハーフカット加工品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019065300A1
,2020-11-26
[8]
製造過程の半導体ウェーハおよび製造過程関連のウェーハおよびシステムの周辺を保護する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017535064A
,2017-11-24
[9]
製造過程の半導体ウェーハおよび製造過程関連のウェーハおよびシステムの周辺を保護する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6221012B1
,2017-10-25
[10]
ゲートインターフェース工学のための新規方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022550561A
,2022-12-02
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