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半导体射频器件及其栅极的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411860602.4
申请日
:
2024-12-17
公开(公告)号
:
CN119767716B
公开(公告)日
:
2025-12-12
发明(设计)人
:
肖阳
蔡勇
邢娟
尹立航
吴增远
荆晴晴
薛俊民
彭宇杰
王恒
申请人
:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请人地址
:
215123 江苏省苏州市工业园区若水路398号
IPC主分类号
:
H10D30/01
IPC分类号
:
H01L21/28
H10D30/47
代理机构
:
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256
代理人
:
郝永波
法律状态
:
公开
国省代码
:
北京市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-04
公开
公开
2025-04-22
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10D 30/01申请日:20241217
2025-12-12
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体射频器件及其栅极的制备方法
[P].
肖阳
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
肖阳
;
论文数:
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机构:
蔡勇
;
邢娟
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
邢娟
;
尹立航
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
尹立航
;
吴增远
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0
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
吴增远
;
荆晴晴
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
荆晴晴
;
薛俊民
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
薛俊民
;
彭宇杰
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
彭宇杰
;
王恒
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
王恒
.
中国专利
:CN119767716A
,2025-04-04
[2]
栅极结构及其制备方法、半导体器件
[P].
晋东坡
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
晋东坡
;
阳黎明
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
阳黎明
;
李钊
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
李钊
;
黄永彬
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
黄永彬
.
中国专利
:CN120529625A
,2025-08-22
[3]
半导体器件结构及其制备方法、射频开关及其制备方法
[P].
孟凡理
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机构:
北京京东方技术开发有限公司
北京京东方技术开发有限公司
孟凡理
;
李泽源
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机构:
北京京东方技术开发有限公司
北京京东方技术开发有限公司
李泽源
;
陈江博
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机构:
北京京东方技术开发有限公司
北京京东方技术开发有限公司
陈江博
.
中国专利
:CN119922924A
,2025-05-02
[4]
半导体射频器件的射频测试方法
[P].
周天舒
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0
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周天舒
.
中国专利
:CN102062834A
,2011-05-18
[5]
栅极制备方法及半导体器件
[P].
金奎东
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机构:
重庆奕能科技有限公司
重庆奕能科技有限公司
金奎东
.
中国专利
:CN119730348A
,2025-03-28
[6]
半导体器件的栅极制造方法和半导体器件
[P].
吴汉明
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吴汉明
;
张海洋
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张海洋
;
刘乒
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刘乒
;
陈海华
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陈海华
.
中国专利
:CN101192526A
,2008-06-04
[7]
半导体器件的栅极制造方法和半导体器件
[P].
吴汉明
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吴汉明
;
张海洋
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张海洋
;
陈海华
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陈海华
;
马擎天
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马擎天
.
中国专利
:CN100483634C
,2008-06-04
[8]
具有金属栅极的半导体器件结构及其制备方法
[P].
平延磊
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平延磊
;
杨瑞鹏
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杨瑞鹏
;
肖德元
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肖德元
.
中国专利
:CN111128889A
,2020-05-08
[9]
半导体器件的制备方法及半导体器件
[P].
吴沛飞
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
吴沛飞
;
魏晓光
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
魏晓光
;
张语
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
张语
;
刘辉
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
刘辉
;
李玲
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北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李玲
;
刘瑞
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
刘瑞
;
焦倩倩
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
焦倩倩
;
王凝一
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
王凝一
.
中国专利
:CN118431075A
,2024-08-02
[10]
半导体器件的制备方法及半导体器件
[P].
吴沛飞
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
吴沛飞
;
魏晓光
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
魏晓光
;
张语
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
张语
;
刘辉
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
刘辉
;
李玲
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李玲
;
刘瑞
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
刘瑞
;
焦倩倩
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
焦倩倩
;
王凝一
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
王凝一
.
中国专利
:CN118431075B
,2025-05-30
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