THEORETICAL OPTIMIZATION OF THERMOELECTRIC FIGURE OF MERIT OF HEAVILY DOPED HOT-PRESSED GERMANIUM-SILICON ALLOYS

被引：25

作者：

ROWE, DM ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV WALES,INST SCI & TECHNOL,DEPT APPL PHYS,CATHAYS PK,CARDIFF CF1 3NU,WALES

来源：

JOURNAL OF PHYSICS F-METAL PHYSICS | 1974年 / 7卷 / 13期

关键词：

D O I：

10.1088/0022-3727/7/13/310

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1843 / 1846

页数：4

共 8 条

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