FABRICATION OF NOVEL 3-DIMENSIONAL MICROSTRUCTURES BY ANISOTROPIC ETCHING OF (100) AND (110) SILICON

被引：243

作者：

BASSOUS, E

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1978.19249

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1178 / 1185

页数：8

共 45 条

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