LIGHT-INDUCED DEFECT CREATION IN HYDROGENATED AMORPHOUS-SILICON - A DETAILED EXAMINATION USING JUNCTION-CAPACITANCE METHODS

被引:17
作者
MAHAVADI, KK [1 ]
ZELLAMA, K [1 ]
COHEN, JD [1 ]
HARBISON, JP [1 ]
机构
[1] AT&T BELL LABS,MURRAY HILL,NJ 07974
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1987年 / 35卷 / 14期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.35.7776
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:7776 / 7779
页数:4
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