ANOMALOUS DIFFUSION FROM DOPED OXIDES DUE TO DOPANT DEPLETION EFFECTS

被引：1

作者：

BALIGA, BJ ^{[1
]}

BHAT, R ^{[1
]}

GHANDHI, SK ^{[1
]}

机构：

[1] RENSSELAER POLYTECH INST,DEPT ELECT & SYST ENGN,TROY,NY 12181

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(77)90004-1

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：773 / 774

页数：2

共 6 条

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BALIGA, BJ ;

GHANDHI, SK .

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