DESIGN OF MAGNETRONS FOR DC SPUTTERING

被引：13

作者：

ALMEIDA, JB

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(89)90023-7

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：717 / 721

页数：5

共 10 条

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