PLANAR MAGNETRON SPUTTERING

被引:190
作者
WAITS, RK
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.569451
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:179 / 187
页数:9
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