DISTRIBUTION OF GOLD AND OXYGEN IN SOLID-PHASE EPITAXY SI FILMS

被引：9

作者：

CHRISTOU, A ^{[1
]}

DAVEY, JE ^{[1
]}

DAY, HM ^{[1
]}

DIETRICH, HB ^{[1
]}

机构：

[1] USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20375

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.89251

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：598 / 600

页数：3

共 5 条

DAVEY, JE ;

CHRISTOU, A ;

DAY, HM .

[2] CRYSTALLIZATION OF GE AND SI IN METAL-FILMS .1. [J].

OTTAVIAN.G ;

SIGURD, D ;

MARRELLO, V ;

MAYER, JW ;

MCCALDIN, JO .

[3] SOLID-PHASE EPITAXIAL-GROWTH OF SI MESAS FROM AL METALLIZATION [J].

SANKUR, H ;

MCCALDIN, JO ;

DEVANEY, J .

[4] CRYSTALLIZATION OF GE AND SI IN METAL-FILMS .2. [J].

SIGURD, D ;

OTTAVIAN.G ;

ARNAL, HJ ;

MAYER, JW .

[5]

SIGURD D, 1972, J NONCRYST SOLIDS, V12, P135