PREFERENTIAL SPUTTERING OF PTSI, NISI2, AND AGAU

被引:41
作者
HOLLOWAY, PH
BHATTACHARYA, RS
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 20卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.571330
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:444 / 448
页数:5
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