OXIDATION INHIBITING PROPERTIES OF SI3N4-LAYERS PRODUCED BY ION-IMPLANTATION

被引:23
作者
RAMIN, M
RYSSEL, H
KRANZ, H
机构
来源
APPLIED PHYSICS | 1980年 / 22卷 / 04期
关键词
D O I
10.1007/BF00901063
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:393 / 397
页数:5
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