VERIFICATION OF A PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM IN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引:25
作者
KRATSCHMER, E
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期
关键词
D O I
10.1116/1.571257
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1264 / 1268
页数:5
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