A NOVEL ETCH MASK PROCESS FOR THE ETCHING OF (011) ORIENTED FACET V-GROOVES IN INP (100) WAFERS

被引:14
作者
HUO, DTC
WYNN, JD
NAPHOLTZ, SG
LENZO, FR
WILT, DP
机构
关键词
D O I
10.1149/1.2100300
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
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页码:2850 / 2856
页数:7
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