HILLOCK REDUCTION IN ION-IMPLANTED METAL

被引：4

作者：

HOLLAND, OW

ALVIS, JR

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2100810

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2017 / 2019

页数：3

共 8 条

[1] ION-IMPLANTATION DAMAGE IN THIN METAL FILMS [J].

BOGARDUS, EH ;

HOWARD, JK ;

PERESSINI, P ;

PHILBRICK, JW .

[2]

DHEURLE F, 1968, T METALL SOC AIME, V242, P502

[3]

Kamei Y., 1984, International Electron Devices Meeting. Technical Digest (Cat. No. 84CH2099-0), P138

KANT, RA ;

MYERS, SM ;

PICRAUX, ST .

[5] REVERSIBLE HILLOCK GROWTH IN THIN FILMS [J].

LAHIRI, SK ;

WELLS, OC .

[6] HILLOCK GROWTH AND STRESS RELIEF IN SPUTTERED AU FILMS [J].

PENNEBAKER, WB .

[7]

REEDHILL RE, PHYSICAL METALLURGY, pCH7

SANTORO, CJ .