ONLINE CAPACITANCE-VOLTAGE DOPING PROFILE MEASUREMENT OF LOW-DOSE ION IMPLANTS

被引：6

作者：

GORDON, BJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1980.20263

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：2268 / 2272

页数：5

共 9 条

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