RAPID DETERMINATION OF SEMICONDUCTOR DOPING PROFILES IN MOS STRUCTURES

被引：29

作者：

ZOHTA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] TOSHIBA RES & DEV CTR,KOMUKAI,KAWASAKI,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(73)90134-2

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：124 / 126

页数：3

共 8 条

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