THE DIFFUSION OF SILICON IN GERMANIUM

被引:69
作者
RAISANEN, J
HIRVONEN, J
ANTTILA, A
机构
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(81)90027-7
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:333 / 336
页数:4
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