NITRIDATION OF SILICON (111) - AUGER AND LEED RESULTS

被引:58
作者
DELORD, JF
SCHROTT, AG
FAIN, SC
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1980年 / 17卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.570498
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:517 / 520
页数:4
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